Новый метод безмасочной литографии, созданный учеными Массачусетского технологического института, позволяет создавать микросхемы со значительно меньшими, чем сейчас, размерами элементов.
В современных технологиях изготовления фотомасок для производства микросхем используются электронные пучки. При уменьшении размеров элементов масок точно управлять движением электронов становится все труднее, что приводит к искажению образцов. В методе, над которым работают в МТИ, маски не нужны. Для печати микросхем применяется матрица из зонных пластинок Френеля, а освещением пластинок управляют микромеханические элементы под контролем компьютера. Это существенно удешевляет производство и позволяет быстро вносить изменения в конструкцию микросхемы.
Теоретически, с помощью такого метода размер элементов можно довести до одной молекулы (2-3 нм). Сейчас исследователям уже удается делать элементы размером 36 нм. Впрочем, до внедрения метода в коммерческое производство остается еще несколько лет. Им займется специально созданная компания Lumarray.
|
